International Studio and Curatorial Program New York, USA
Seit 1999 ermöglicht die Kulturstiftung sächsischen Künstlerinnen und Künstlern den Aufenthalt am renommierten International Studio and Curatorial Program in New York. Das ISCP ist das erste und bis heute bekannteste Artist-in-Residence Programm in den Vereinigten Staaten. Vor Ort können die Stipendiatinnen und Stipendiaten Kontakte zu Künstlerinnen und Künstlern in aller Welt knüpfen und sich mit der Kunstszene New Yorks vernetzen. Oft stellen diese Kontakte die Weichen für die weitere Karriere.
Programmprofil
Sparte
Bildende Kunst
Stipendiendauer
6 Monate (1. Januar bis 30. Juni oder 1. Juli bis 31. Dezember)
Stipendienhöhe
2.500 Euro monatlich zzgl. Reisekosten, kostenfreies Atelier
Antragszeitraum
15. Mai bis 1. Juli für ein Stipendium im Folgejahr
Antragstellung
Online-Formular
Im Rahmen des International Studio and Curitorial Program - kurz ISCP - in New York City erhalten jährlich zwei Bildende Künstlerinnen und Künstler aus dem Freistaat Sachsen die Möglichkeit, sechs Monate in New York zu verbringen. Im Rahmen des Arbeitsaufenthalts können sich die Stipendiatinnen und Stipendiaten mit den internationalen Teilnehmerinnen und Teilnehmern des Programms vernetzen und durch eine Vielzahl angebotener Veranstaltungen wichtige Kontakte zu den Galerien und Museen New Yorks knüpfen. Teil des Programms sind mindestens sechs Treffen mit guest critics der New Yorker Kunstszene, eine Open Studio Veranstaltung und diverse Exkursionen.
Während ihres Aufenthaltes erhalten die Stipendiatinnen und Stipendiaten eine monatliche Stipendienrate in Höhe von 2.500 Euro. Zudem werden die Mietkosten für ein Atelier am ISCP in Brooklyn sowie der Hin- und Rückflug übernommen. Eine Wohnung in New York kann nicht zur Verfügung gestellt werden. Diese muss selbst organisiert und durch die monatliche Stipendienrate finanziert werden. Die Begleitung von Ehe- oder Lebenspartnern sowie Kindern ist in Absprache mit der Kulturstiftung möglich. Die Stipendien werden für die Zeiträume vom 1. Januar bis zum 30. Juni sowie vom 1. Juli bis zum 31. Dezember vergeben. Die Abstimmung über den Zeitraum des Aufenthalts erfolgt im Vorfeld zwischen den beiden ausgewählten Künstlerinnen und Künstlern und der Kulturstiftung.
Die Antragstellung für das Residenzstipendium erfolgt über das allgemeine Stipendienantragsverfahren mit dem Antragsschluss 1. Juli für ein Stipendium im Folgejahr. Alle Informationen zur Antragstellung können hier nachgelesen werden.
